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加熱循環(huán)裝置-密閉冷熱一體機

簡要描述:加熱循環(huán)裝置-密閉冷熱一體機,全密閉的循環(huán)系統(tǒng)避免了高溫油霧異味和低溫吸收水分的情況,保障了工作環(huán)境不會有刺鼻氣味的產生,也避免了導熱介質吸收了水分后變粘稠黏附在反應釜壁后導致傳熱效果變差。

  • 產品型號:SUNDI-155
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-01-03
  • 訪  問  量:638
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、

蒸飽系統(tǒng)控溫、

材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、

半導體設備冷卻加熱、

真空室制冷加熱恒溫控制。

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

型號SUNDI-125
SUNDI-125W
SUNDI-135
SUNDI-135W
SUNDI-155
SUNDI-155W
SUNDI-175
SUNDI-175W
SUNDI-1A10
SUNDI-1A10W
SUNDI-1A15
SUNDI-1A15W
介質溫度范圍-10℃~+200℃
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制10條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW2.53.55.57.51015
制冷量 kW at200℃2.53.55.57.51015
20℃2.53.55.57.51015
-5℃1.52.13.34.269
流量壓力 max
L/min bar
203535505075
222222.5
壓縮機三菱三菱艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。
制冷劑R-404A/R507C
接口尺寸G1/2G3/4G3/4G1G1G1
水冷型 W
溫度 20度
600L/H
1.5bar~4bar
800L/H
1.5bar~4bar
1000L/H
1.5bar~4bar
1200L/H
1.5bar~4bar
1600L/H
1.5bar~4bar
2000L/H
1.5bar~4bar
外型尺寸(水)cm45*65*12055*68*14555*68*14555*68*14555*100*17570*100*175
外形尺寸 (風)cm50*85*13055*100*17555*100*17555*100*17555*100*17570*100*175
隔爆尺寸(風) cm45*110*13045*110*13045*110*13055*120*17055*120*17055*120*170
正壓防爆(水)cm110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195110*95*195120*110*195
常規(guī)重量kg115165185235280300
電源 380V 50HZAC 220V 50HZ 3.6kW5.6kW7.5kW10kW13kW20kW

  <strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

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加熱循環(huán)裝置-密閉冷熱一體機

加熱循環(huán)裝置-密閉冷熱一體機

  加熱循環(huán)裝置是一種用于提高反應釜產率和降溫速度的裝置,主要包括通過排氣管道與反應釜的排氣口相連接的冷凝罐,所述冷凝罐上設有相應的控制閥門、冷凝液出口、氣體出口及冷凝套。該裝置特別適合于高溫高壓反應釜中生物質在亞/超臨界條件下液化過程中提高生物油液化率和提高降溫速度。用于提高反應釜產率和降溫速度的裝置,其特征是,主要包括通過排氣管道與反應 釜的排氣口相連接的冷凝裝置。

加熱循環(huán)裝置涉及反應釜的降溫設備技術領域,尤其涉及一種反應釜水冷式降溫裝置,包括反應釜、導熱油爐、導熱油管道以及冷卻機構,所述導熱油管道連接于反應釜和導熱油爐之間,導熱油爐兩端的導熱油管道上分別安裝有較一閥門;所述冷卻機構包括與導熱油管道連通的內層管道、套裝于內層管道外的外層管道和與外層管道連接的冷卻池,內層管道上設置有能夠使導熱油在反應釜、內層管道中循環(huán)流動的循環(huán)油泵,內層管道兩端還分別安裝有較二閥門,該裝置通過對熱油管道進行循環(huán)降溫,能夠對反應釜內原料進行能量轉換實現(xiàn)快速降溫。

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